Højtemperatur elektrisk opvarmning kemisk reaktor
Høj blandingseffektivitet, arbejde i vakuum eller højtryksreaktion, nøjagtig højtemperaturkontrol (300-700 ℃）！ Det er meget udbredt til brandfarlige og eksplosive, meget giftige, dyrebare medier og andre meget permeable kemiske medier til omrøringsreaktion. Anvendes i processen med vulkanisering og fluorering af petroleum, kemisk, organisk syntese, polymerpolymerisering. Elektrisk opvarmning kemisk reaktor; Høj temperatur kemisk reaktor; Langt infrarød varmereaktor; Induktionsopvarmning kemiske reaktorer; Højtemperaturharpiksreaktorer
- HXCHEM
- Kina
- 65 dage efter betaling
- 30 sæt om måneden
Detaljer
Højtemperatur elektrisk opvarmning kemisk reaktor
Introduktion
Den langt-infrarøde elektriske varmeenhed har et stort varmeområde, stabil og hurtig opvarmning, ensartet varmeafgivelse, bekvem temperaturkontrol og kan styres af øvre, midterste og nedre sektioner.
Temperaturen på elkedlens væg i elkedlen er nem at styre, og der er ingen bivirkning på materialet i elkedlen. Ingen støj, ingen forurening, lang levetid (over 30000 timer), betydelig energibesparelse (28% eller mere). Varmelegemets temperatur kan indstilles vilkårligt fra en normal temperatur til 800 °C.
Hydrogeneringsanlæg | Pilot lab reaktor | Trykbeholder | 100L reaktor
Piloclave | Laboratoriereaktor med kappe i pilotskala | Mini-anlæg pilotreaktor
Ansøgning: Højtemperaturreaktion, Harpiksreaktorer, Polymerisation, Krystallisation, Syntese osv.
| Model | GSH500 |
| Reaktor navn | Fjern infrarød varmereaktor |
| Bind | 500 liter |
| Tryk | 6 bar |
| Temperatur | 450 ℃ |
| Opvarmningstype | Fjern infrarød varme |
| Tætningstype | Mekanisk forsegling |
| Omrøringstype | Anker type |
produktegenskaber
Gulvstativ eller flytbar vogntype.
Kapacitetsvolumen: 1 liter til 5000 liter.
Tryk: -1~300 bar; Max temperatur op til 700 ℃.
Opvarmning:Fjern-infrarød elvarme.
Magnetisk tætning eller mekanisk tætning.
Tilgængeligt materiale: SS304, SS316, Titanium, Nikkel, Hastelloy B/C, Monel, Zirconium.
Forskellige pumpehjulstyper til rådighed til blandemission.
Spiral, rør intern kondensator tilgængelig.
Overvågning og kontrol: Temperatur, tryk, motorhastighed, driftstid osv.
Tilpasset efter kundernes krav.
Detaljer Viser
Tilpassede specifikationer
Første trin: Design
1. Reaktorvolumen
2. Arbejdstemperatur
3. Arbejdstryk
4. Reaktormateriale / fugtet materiale
5. Omrørertype, og blandingshastighed, motoreffektanmodning? Eksplosionssikker?
6. Med varmeapparat eller ej? Type?
7. Intern køleflade eller ej, udskiftningsområde?
8. Løfteanordning eller ej？（0,5L-500L）
10. Dine andre ønsker?
Andet trin: BekræftelseBekræftelse baseret på kundens anmodning;
Tredje trin: Produktion
Fjerde trin: Efterbehandling og transport
Femte trin: Tekniske dokumenter og eftersalgsserviceVi hjælper dig gerne med at gennemføre dine planer.
Produktionsdetaljer
HXCHEM leverer forskellige elektriske opvarmning kemiske reaktorer; Høj temperatur kemisk reaktor; Langt infrarød varmereaktor; Induktionsopvarmning kemiske reaktorer; Høj temperatur harpiks reaktorer; pilot kemiske reaktorer; Elvarme pilotreaktorer mv.
Standard specifikationer
GSH pilottrykreaktor standardspecifikation
| GSH-50 | ||||
| 50 | ||||
Standard 100bar, -0,1-250 bar tilpasset | ||||
SS304 eller SS316 fugtede dele, andre legeringer (Titanium, Hastelloy, Duplex stål osv.) | ||||
0 ~ 350 tilpas baseret på driftstemperatur. | ||||
| 0-500 | ||||
| 1.5 | ||||
I henhold til arbejdstemperaturen | ||||
Standard elektrisk opvarmning (termisk olie, damp, fjern infrarød varme tilgængelig) | ||||
Flad dæksel eller elliptisk flangelukning | ||||
Propel, pagaj, anker, spiral, turbine, gasinducerende type osv | ||||
Spiralkøling afkøles med kølevand | ||||
Udledning fra bunden eller ovenfra. | ||||
PID temperaturvisning og kontrol, nøjagtighed±1 ℃; Visning af omrøringshastighed; Visning af driftstid; Visning af varmespænding og strøm; Berøringsskærm valgfri. | ||||
Trykmåler, Sikkerhedsventilport; Midlertidig. måling port; Gas- og væskeport; Dyp rør; Udluftningsport; Solid opladningsport; Kølespiral indløb og yderport; | ||||
Bemærk:Ovenstående standardparametre er kun til reference. Forskellige processer har deres eget rimelige valg, ikke jo mere komplet funktionen er, jo bedre.
Strukturen, specifikationen, dysestørrelsen og orienteringen skal bekræftes efter kommunikation med os.
